未来智能技术
天工造物大模型
塞贝克半导体效应
半导体物理奠基期(1821年)
温差发电、工业测温、热电制冷、导电关系、低功供电
法拉第半导体电阻效应
半导体物理奠基期(1833年)
材料分类、研究范式、热敏电阻、交叉融合、信息时代
贝克勒尔光伏效应
半导体物理奠基期(1839年)
发电方式、光电子学、硒太阳能、光伏产业、广泛赋能
布劳恩整流效应原理
半导体物理奠基期(1874年)
器件物理、晶体检波、无线通信、性能差异、真空主导
弗莱明真空二极管原理
半导体物理奠基期(1904年)
电子学科、有源器件、无线通信、电子工业、核心支撑
德福雷斯特三极管原理
半导体物理奠基期(1906年)
以小控大、信号放大、衍生核心、灵魂突破、电子黄金
威尔逊半导体能带原理
半导体物理奠基期(1831年)
微观物理、材料本质、可控秘密、半导工业、现代科技
贝尔实验室晶体管原理
半导体物理奠基期(1947年)
固态电子、流子输运、表面效应、数字时代、产业奇迹
肖克利结型晶体管原理
半导体物理奠基期(1948年)
单向导电、放大原理、开关思想、制造工艺、新兴产业
硅晶体管问世原理
集成电路诞生期(1954年)
先天材料、关键技术、集成电路、摩尔定律、产业体系
扩散工艺发明原理
集成电路诞生期(1955年)
工艺发明、工艺驱动、工艺流程、扩散工艺、光刻技术
基尔比集成电路原理
集成电路诞生期(1958年)
单片集成、小型轻量、低功耗级、驱动芯片、细分产业
赫尔尼平面工艺原理
集成电路诞生期(1959年)
攻克规模、量产瓶颈、晶圆标准、管漏电流、工艺基石
诺伊斯硅基集成电路原理
集成电路诞生期(1959年)
电气隔离、结构规范、专利体系、落地演进、芯片成型
MOS晶体管发明原理
集成电路诞生期(1960年)
核心器件、降低功耗、超高集成、简化芯片、赋能产业
仙童半导体电路原理
集成电路诞生期(1961年)
商用芯片、民用消费、封装体系、创业赛道、市场落地
TTL逻辑电路发明原理
集成电路诞生期(1962年)
逻辑规范、平面制程、控制电路、数字转型、演进脉络
CMOS技术概念原理
集成电路诞生期(1963年)
工艺架构、解决热耗、催生便携、稳定工作、关键技术
摩尔定律原理
集成电路诞生期(1965年)
产业顶层、发展纲领、成本指数、凝聚资本、资本投入
离子注入技术原理
规模化发展期(1966年)
纳米量级、必备工艺、射频芯片、降低废率、延续节奏
英特尔公司成立
规模化发展期(1968年)
存储产业、商用微器、自研设计、产业集聚、人才循环
NMOS工艺成熟原理
规模化发展期(1969年)
单片集成、光刻制造、迁移速率、通用产业、工艺成熟
英特尔4004微处理器
规模化发展期(1971年)
产业起点、小型电脑、嵌入应用、制程进步、电子产业
PMOS与NMOS互补技术
规模化发展期(1972年)
超低功耗、电池续航、提升稳定、高密集成、主流工艺
英特尔8080处理器原理
规模化发展期(1974年)
八位架构、个人计算、工控嵌入、软硬配套、量产落地
EEPROM技术发明原理
规模化发展期(1975年)
反复编程、断电保存、智能设备、闪存技术、在线升级
1微米工艺突破原理
规模化发展期(1976年)
规模集成、稳步提升、更高位数、同步优化、精细体系
英特尔8086处理器原理
规模化发展期(1978年)
经典架构、微产业化、加速普及、个人电脑、应用软件
CMOS工艺商业化原理
规模化发展期(1980年)
全面取代 、主流制造、数码产品、赋能智能、微米工艺
IBM PC推出原理
摩尔定律黄金期(1981年)
确立开放、规模商用、产业崛起、家庭市场、全民电脑
RISC架构提出原理
摩尔定律黄金期(1982年)
运算效率、结构简化、精简电路、分化赛道、快速迭代
1兆位DRAM量产原理
集成电路诞生期(1983年)
质的飞跃、架构革新、数字消费、带动产业、创新试验
英特尔386处理器
摩尔定律黄金期(1985年)
位数跃迁、解锁图形、复杂科学、绝对控制、工程仿真
台积电成立
摩尔定律黄金期(1986年)
分工范式、实现量产、工艺迭代、生命周期、数字经济
0.5微米工艺量产原理
摩尔定律黄金期(1989年)
跨越提升、优化功耗、芯片迭代、制程路线、大众市场
英特尔奔腾处理器
摩尔定律黄金期(1993年)
并行运算、音频图像、行业标杆、办公游戏、产业升级
铜互连技术研发原理
摩尔定律黄金期(1995年)
铝互连物、提升能源、布线密度、高度集成、降本降耗
低K介质材料应用原理
摩尔定律黄金期(1997年)
与铜互连、主频攀升、极限性能、动态功耗、缓解散热
0.18微米工艺量产原理
摩尔定律黄金期(1999年)
微米工艺、介质技术、互连技术、架构普及、数字经济
90纳米工艺研发原理
纳米时代与结构创新(2001年)
一亿晶体、分辨增强、并行计算、高集成化、晶圆代工
应变硅技术应用原理
纳米时代与结构创新(2003年)
光刻尺寸、开关速度、能效解决、应变硅术、催生创新
SOI绝缘体上硅技术
纳米时代与结构创新(2004年)
突破制程、释放性能、黄金工艺、特种领域、核心价值
45 纳米工艺量产
纳米时代与结构创新(2007年)
攻克漏电、消除耗尽、标配核心、计算潜能、移动互联
FinFET鳍式晶体管研发
纳米时代与结构创新(2008年)
攻克晶管、短沟效应、终极瓶颈、统治产业、先进架构
22纳米工艺量产
纳米时代与结构创新(2011年)
首次商用、终结平面、拯救摩尔、数级跃升、全球标准
三维集成电路技术
纳米时代与结构创新(2012年)
二维极限、三维攻克、赋能便携、异构集成、技术壁垒
14纳米工艺量产原理
纳米时代与结构创新(2014年)
光刻极限、性能能效、智能手机、电子升级、先进制程
芯片异构集成概念
纳米时代与结构创新(2015年)
芯片集成、经济极限、系统能效、智能深度、整体价值
EUV极紫外光刻技术
先进工艺与未来探索(2016年)
物理极限、代际跃迁、极高技术、新兴科技、大国博弈
7纳米工艺量产
先进工艺与未来探索(2018年)
量产跨越、能效突破、性能提升、全面赋能、集中效应
环绕栅极晶体管研发
先进工艺与未来探索(2019年)
节点逾越、栅控能力、率先实现 、灵活调整、技术竞赛
5纳米工艺量产
先进工艺与未来探索(2020年)
主导地位、核心痛点、规模普及、实时任务、绝对垄断
Chiplet芯粒技术兴起
先进工艺与未来探索(2021年)
第二曲线、工艺分层、迭代速度、计算架构、极致算力
3纳米工艺量产
先进工艺与未来探索(2022年)
先进芯片、算力底座、智能汽车、产业战略、竞争格局
2纳米工艺研发
先进工艺与未来探索(2023年)
层数极限、互补晶体、物理极限、未有空间、重构竞赛
二维材料晶体管实验
先进工艺与未来探索(2024年)
隧穿效应、超硅电子、互补场效、存算一体、全新产业
量子点晶体管研究
先进工艺与未来探索(2025年)
热力极限、智能终端、无缝桥梁、神经形态、突触权重
光互连技术商用化
先进工艺与未来探索(2026年)
终结极限、超算跨越、核心算力、重构数据、硅光融合
神经形态计算芯片
先进工艺与未来探索
颠覆架构、量级跃升、感知计算、类脑智能、神经芯片
碳基芯片研发突破
先进工艺与未来探索
原子尺度、无需极紫、未有算力、亿级连接、发展方向
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